Obiettivo: Levigare e lucidare la faccia finale del truciolo fino a ottenere una finitura a specchio, garantendo la perpendicolarità della faccia finale e l'assenza di scheggiature dei bordi.
Sfide principali: I chip a base di silicio sono fragili, di piccole dimensioni e difficili da riparare durante la preparazione del campione.
Materiale: Chip a base di silicio
Attrezzature e accessori
Attrezzatura: Levigatrice e lucidatrice ad alta precisione Semipol
Accessori: Dispositivo per il montaggio di campioni in lamiera sottile
Materiali di consumo
Pellicole per lappatura diamantata (15μm, 9μm, 3μm, 0,5μm)
Panno lucidante ZN-ZP
Sospensione lucidante all'ossido di alluminio AO-W
Caratteristiche dell'attrezzatura Semipol
Semipol è un dispositivo di levigatura e lucidatura ad alta precisione in grado di eseguire un'accurata preparazione semiautomatica del campione per vari materiali. Offre una capacità di macinazione massima di 10 mm, una risoluzione di 1μm e una precisione di stabilità di ±2μm.
Adatto per la smerigliatura e lucidatura ad alta precisione di circuiti integrati, wafer di semiconduttori, componenti ottici e fibre ottiche, campioni petrografici, parti metalliche di precisione e altri materiali.
Dotato di attrezzature multiple per gestire la molatura e la lucidatura di campioni di diverse forme e dimensioni.
Schema di preparazione
Rettifica con pellicole diamantate per lappatura (dimensioni delle particelle: 15μm → 9μm → 3μm → 0,5μm, affinamento graduale).
Lucidare con Panno lucidante ZN-ZP Sospensione lucidante all'ossido di alluminio AO-W.
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